本日は、2024年度知的財産権制度入門テキストをご案内いたします。

https://www.jpo.go.jp/news/shinchaku/event/seminer/text/2024_nyumon.html

2024年度知的財産権制度入門テキストは、特許庁が公表するもので、

最新版が2024年8月30日に、特許庁HPにて公表されました。

下記リンクからご覧いただけます。

https://www.jpo.go.jp/news/shinchaku/event/seminer/text/document/2024_nyumon/all.pdf

このテキストは、特許庁が公式に提供しているものですので、

最も信頼のあるテキストの1つとなっています。

このテキストは、

特許、実用新案、意匠、商標の各制度や、不正競争防止法にわたり、

知的財産権について初めて学ぶ方にとっても、わかりやすくその概要が示されております。

社内の研修用のテキストとしてなど、ご活用いただけるものです。

以下に、このテキストの概要編の目次を示します。

I　概要編

第1章　知的財産権と産業財産権制度の概要

第1節　知的財産権とは

第2節　産業財産権制度とは

第2章　産業財産権の概要

第1節　特許制度の概要

［1］特許制度の目的

［2］特許法上の発明（保護対象）

［3］特許を受けることができる発明とは

［4］発明の種類と捉え方

［5］特許を受けることができる者

［6］職務発明制度とは

［7］出願から特許権取得までの流れ

第2節　実用新案制度の概要

［1］実用新案制度の目的と保護対象

［2］実用新案制度と特許制度の違い

［3］出願から実用新案権取得までの流れ

［4］実用新案権の行使

第3節　意匠制度の概要

［1］意匠制度の目的

［2］意匠登録を受けるためには

［3］出願から意匠権取得までの流れ

［4］ニーズに応じた意匠登録出願

第4節　商標制度の概要

［1］商標とは

［2］商標登録を受けることができない商標

［3］出願から商標権取得までの流れ

［4］地域団体商標制度

［5］商標登録の効果

［6］商標登録異議の申立て・審判

［7］その他の制度

第5節　外国での権利取得

［1］特許・実用新案

［2］意匠

［3］商標

第3章　特許情報の利用

［1］特許情報とは

［2］特許の分類（IPC）とFI・Fターム

［3］特許情報プラットフォームを利用した特許情報の検索

［4］画像意匠公報検索支援ツール（Graphic Image Park）を利用した画像デザインに関する意匠公報の調査

第4章　産業財産権の活用と権利侵害への対応（特許権を中心として）

第1節　産業財産権の活用

第2節　権利侵害への対応

第3節　判定・無効審判制度

第5章　その他の知的財産等

第1節　不正競争の防止（不正競争防止法）

第2節　著作権の目的と保護対象

第3節　植物の新品種の保護（育成者権）

第4節　地理的表示保護（GI）制度の概要

第6章　その他の運用

第1節　早期審査（審理）・優先審査・面接等

［1］特許・実用新案

［2］意匠

［3］商標

第2節　特許審査ハイウェイ（PPH：Patent Prosecution Highway）

第7章　地域における支援サービス

第1節　経済産業局等知的財産室

第2節　地域知的財産戦略本部

第3節　知財総合支援窓口

第4節　弁理士・日本弁理士会

第5節　独立行政法人中小企業基盤整備機構

第6節　商工会・商工会議所

第7節　よろず支援拠点

特許出願、商標登録出願等に関する代理につきまして何かありましたら、

弊所にぜひご相談ください。

2024.09

著作権テキスト -令和６年度版-

2024年度知的財産権制度入門テキストが公表されました